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            塑封半導體器件<i style='color:red'>thb</i>試驗

            塑封半導體器件thb試驗

            thb試驗是考核塑封器件耐濕性常用的加速試驗方法,一般在高溫高濕試驗箱中進行。通過提高環(huán)境溫度及相對濕度,使試驗環(huán)境的水汽分壓增加,加大了試驗環(huán)境與塑封半導體器件樣品內(nèi)部的水蒸氣壓力差,進而加劇水汽擴散和吸收:同時施加偏置電壓為加速金屬侵蝕提供了必要的電解電池。加速金屬侵蝕的原因還有:塑封器件所用不同材料的熱失配使封裝體內(nèi)產(chǎn)生縫隙加速水汽的侵入;封裝材料中的雜質(zhì)污染等。
            HAST試驗的特點與優(yōu)勢

            HAST試驗的特點與優(yōu)勢

            HAST是專為塑封固態(tài)器件而設(shè)計的,因為事實證明,高壓蒸煮和thb試驗對于某些健壯的塑封微電路已經(jīng)不能產(chǎn)生失效。 這一試驗用高溫(通常為130℃)、高相對濕度(約85%)、高大氣壓力的條件(達3atm)來加速潮氣通過外部保護材料或芯片引線周圍的密封封裝。

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